2023-05-25阅读(325)

最近介绍了一些ASML下一代高数值孔径EUV光刻机的进度，其中提到配置0.55NA光学曝光系统的EUV光刻机十几年前已经规划，这是芯片制造延续摩尔定律的重要节点。为了延续摩尔定律，大